Substrate, la startup que quiere desafiar las reglas de la litografía de semiconductores

Una startup estadounidense llamada Sustratos está desarrollando un Nuevo sistema de litografía de rayos X (XRL) impulsado por uno fuente de luz basada en acelerador de partículas, prometiendo un mejor rendimiento y rentabilidad que el litografía ultravioleta extrema (EUV)la tecnología avanzada que permite “imprimir” circuitos eléctricos en pequeñas láminas de silicio, llamadas obleas.

Según la startup, con su sistema debería ser posible obtener resoluciones equivalentes a los 2 nm de las unidades producidas por la empresa holandesa ASML (la maquinaria litográfica de esta última es la que utilizan la mayoría de fundiciones, en la base de los chips producidos por NVIDIA, Intel y AMD).

la puesta en marcha informes Además de posibles nuevos avances, reitera que sus sistemas ofrecen la posibilidad de reducir los costes de producción respecto a la competencia, y promete que se ofrecerán altas resoluciones antes de 2030.

Lo que Substrate no dice es que las herramientas que está desarrollando no son compatibles con la instrumentación existente y los flujos de producción probados y, por lo tanto, sería necesario reinventar toda la cadena de suministro que conduce a la creación de chips.

En cualquier caso, la idea de Substrate no parece ser vender sus herramientas sino crear sus propias fabs y ofrecer futuros servicios de fundición a terceros.

TSMC listo para producir chips de 3 nm en la segunda mitad de este año
Foto de TSMC

¿Quién está detrás de Sustrato?

Substrate, con sede en San Francisco, fue fundada en 2022 por James orgullosoempresario de treinta y cuatro años y beneficiario de la beca Thiel; La empresa ha recibido rondas de financiación de Founders Fund (la firma de capital riesgo de Peter Thiel), General Catalyst y Valor Equity Partners, alcanzando una valoración de más de mil millones de dólares. Ya se han iniciado conversaciones con el Departamento de Comercio, el Departamento de Energía y otras agencias federales estadounidenses. Entre los objetivos: reducir la dependencia de la maquinaria ASML sino también crear fundiciones que puedan competir con TSMC. Con el apoyo del gobierno estadounidense, que impulsa el renacimiento de la fabricación de semiconductores en el territorio nacional, el objetivo es ofrecer servicios a terceros en unos años.

Expertos como David Dai de Bernstein recuerdan, sin embargo, que la litografía de rayos X ya se había investigado en el pasado sin obtener resultados concretos y que el éxito de esta startup dependerá de la capacidad de crear un ecosistema industrial que convenza a los fabricantes de chips de confiar en sistemas de producción completamente nuevos.

Todos los artículos que hablan de Finanzas y Mercado están disponibles en la sección dedicada de aatma,